1、亲水性二氧化硅熔炼（气象亲水性二氧化硅ph值） 低温等离子体刻蚀的一个突出特点是空间尺度和时间尺度跨度相当大，亲水性二氧化硅熔炼需要在直径300mm的圆上进行&刻蚀；），在时间尺度上也从纳秒级的电子响应时间到蚀刻整片晶圆所需的宏观分钟级，这样的时空跨度可以很好地反映出超大规模集成电路制造和等离子清洗机等离子蚀刻技术所面临的挑战。等离子体清洗机低温...
